text.skipToContent text.skipToNavigation
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7A

Мембранные клапаны Swagelok® сверхвысокой степени чистоты для атомно-слоевого осаждения (серия ALD7A)

Клапаны Swagelok серии ALD7A сверхвысокой степени чистоты обеспечивают стабильный расход и пропускную способность, быструю отработку, температурные параметры и уровень чистоты, помогающие увеличить выпуск чипов при использовании новых или имеющихся инструментов для производства полупроводников.

Запросить информацию о клапанах ALD7A

Мембранный клапан Swagelok® ALD7A сверхвысокой степени чистоты на платформе ALD7 оснащен функцией регулировки расхода в полевых условиях. Данное решение обеспечивает точную настройку характеристик прямо на технологическом оборудовании. Клапаны ALD7A предназначены для обеспечения точного, воспроизводимого расхода и срабатывания при тяжелых циклических нагрузках. Наличие функции локальной регулировки расхода позволяет адаптироваться под конкретные условия оборудования, а также оптимизировать контроль дозирования без изменения конструкции установки.

Особенности клапана ALD7A:

  • Улучшенная конструкция привода для быстрого и стабильного срабатывания: скорость срабатывания менее 3 мс, время отклика около 5 мс
  • Коэффициент расхода до 0,7 Cv с возможностью заказа индивидуальных значений
  • Локальная регулировка расхода, позволяющая уменьшить Cv до 25% от заводской настройки
  • Коррозионно-стойкий корпус из нержавеющей стали 316L VIM-VAR для процессов сверхвысокой чистоты
  • Погружное исполнение стандартного корпуса клапана в диапазоне от 0 °C до 200 °C (32-392 °F); опциональное высокотемпературное исполнение корпуса и привода от 0 °C до 150 °C (32-302 °F)

Клапаны ALD7A более подробно

Технические характеристики клапана ALD7A

Рабочее давлениеОт вакуума до 10,0 бар (145 psig)
Давление разрыва>3200 psig (220 бар)
Давление управления4,2-8,2 бар (60–120 psig)
Температурный диапазонОт 0 °C до 200 °C (от 32 °F до 392 °F)
Коэффициент расходаСтандартный 0,7 Cv (заводская настройка)
Материалы корпусаНержавеющая сталь 316L VIM-VAR
Материал мембраныСуперсплав на основе кобальта
Торцевые соединенияТип: фитинги VCR®, приварные патрубки (встык), модульное соединение 1,5 дюйма для монтажа на поверхность (С-образные уплотнения, High Flow)

 

Есть вопросы по клапанам ALD?

Напишите специалисту

Каталоги клапанов серии ALD7A

Подробные сведения о продукции: материалы изготовления, номинальные параметры давления и температуры, варианты исполнения, вспомогательные принадлежности.

Арматура и клапанные блоки ALD

Способы решения основных проблем, связанных с обработкой полупроводников методом атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE)

Для процесса обработки полупроводников методами атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE) характерны определенные проблемы и сложности. Узнайте, как правильный выбор технологических клапанов поможет вам справиться с ними.

Выберите подходящие клапаны для решения задач в области атомно-слоевого осаждения (ALD)

Ресурсы Swagelok специально для вас

Технический контроль кремниевой пластины
Оптимизация критически важных процессов для улучшения рентабельности производства микросхем

Модернизация ключевых газовых и жидкостных систем: снижение рисков, контроль затрат и рост эффективности производства.

Техник регулирует оборудование газовой/жидкостной системы на полупроводниковом производстве.
Инженерная поддержка Swagelok на объекте для эффективного производства микросхем

В условиях расширения и унификации полупроводниковых производств, техническое сопровождение играет ключевую роль в обеспечении высокого качества и надежности.

Этот процесс может занять несколько минут. Дождитесь его завершения и не покидайте страницу.